Вытворца пітной вады сістэмы ачысткі вады
Для сучасных прамысловых сістэм водазабеспячэння існуе некалькі сегментаў выкарыстання вады і патрабаванняў.Прамысловыя і горназдабыўныя прадпрыемствы не толькі патрабуюць вялікіх аб'ёмаў вады, але і маюць пэўныя патрабаванні да крыніц вады, ціску вады, якасці вады, тэмпературы вады і іншых аспектаў.
Водакарыстанне можна класіфікаваць па прызначэнні, уключаючы наступныя віды:
Тэхнічная вада: вада, якая непасрэдна выкарыстоўваецца ў прамысловай вытворчасці, называецца тэхналагічнай вадой.Тэхнічная вада ўключае ў сябе наступныя віды:
Астуджальная вада: выкарыстоўваецца для паглынання або перадачы лішняга цяпла ад вытворчага абсталявання, каб гарантаваць, што абсталяванне працуе пры нармальнай тэмпературы.
Тэхнічная вада: выкарыстоўваецца для вытворчасці, апрацоўкі прадуктаў і адпаведнага выкарыстання вады ў працэсах вытворчасці і апрацоўкі.Тэхнічная вада ўключае ў сябе ваду для прадуктаў, ачысткі, прамога астуджэння і іншую тэхналагічную ваду.
Катловая вада: выкарыстоўваецца для выпрацоўкі пары для тэхналагічных працэсаў, ацяплення або выпрацоўкі электраэнергіі, а таксама вады, неабходнай для ачысткі кацельнай вады.
Вада ўскоснага астуджэння: у працэсе прамысловай вытворчасці вада, якая выкарыстоўваецца для паглынання або перадачы лішняга цяпла ад вытворчага абсталявання, якое аддзяляецца ад астуджанай асяроддзя сценкамі цеплаабменніка або абсталяваннем, называецца вадой ускоснага астуджэння.
Бытавая вада: вада, якая выкарыстоўваецца для бытавых патрэб рабочых на фабрычнай тэрыторыі і ў майстэрні, у тым ліку ў розных мэтах.
Водныя сістэмы прамысловых і горназдабыўных прадпрыемстваў вялікія і разнастайныя, таму неабходна разумна праектаваць водныя рэсурсы і кіраваць імі, зыходзячы з патрабаванняў розных відаў выкарыстання, забяспечваючы надзейнае водазабеспячэнне і захаванне патрабаванай якасці вады, ціску вады і тэмпературы вады.
На аснове прадстаўленай інфармацыі, вось кароткі змест розных патрабаванняў да якасці вады для розных прымянення:
Праводнасць ≤ 10μS/CM:
1. Вада пітная для жывёл (лячэбная)
2. Чыстая вада для падрыхтоўкі звычайнай хімічнай сыравіны
3. Чыстая вада для інгрэдыентаў харчовай прамысловасці
4. Дэіянізаваная чыстая вада для агульнай прамыўкі гальванічнай прамысловасці
5. Апрэсненая чыстая вада для тэкстыльнай друку і фарбавання
6. Чыстая вада для нарэзкі поліэстэру
7. Чыстая вада для тонкай хіміі
8. Вада чыстая вычышчаная для гаспадарча-пітнога прызначэння
9. Іншыя прыкладанні з такімі ж патрабаваннямі да якасці чыстай вады
Удзельнае супраціўленне 5-10MΩ.CM:
1. Чыстая вада для вытворчасці літыевых батарэй
2. Чыстая вада для вытворчасці акумулятараў
3. Чыстая вада для вытворчасці касметыкі
4. Чыстая вада для катлоў электрастанцыі
5. Чыстая вада для хімічных раслінных інгрэдыентаў
6. Іншыя прыкладання з такімі ж патрабаваннямі да якасці чыстай вады
Удзельны супраціў 10-15MQ.CM:
1. Чыстая вада для лабараторый на жывёл
2. Чыстая вада для пакрыцця шкляной абалонкі
3. Звышчыстая вада для гальванікі
4. Чыстая вада для шкла з пакрыццём
5. Іншыя прыкладання з такімі ж патрабаваннямі да якасці чыстай вады
Удзельнае супраціўленне ≥ 15MΩ.CM:
1. Стэрыльная чыстая вада для фармацэўтычнай вытворчасці
2. Чыстая вада для ротавай вадкасці
3. Дэіянізаваная чыстая вада для вытворчасці элітнай касметыкі
4. Чыстая вада для пакрыцця электроннай прамысловасці
5. Чыстая вада для ачысткі аптычнага матэрыялу
6. Чыстая вада для электроннай керамічнай прамысловасці
7. Чыстая вада для перадавых магнітных матэрыялаў
8. Іншыя прыкладання з такімі ж патрабаваннямі да якасці чыстай вады
Удзельнае супраціўленне ≥ 17MΩ.CM:
1. Змякчаная вада для катлоў з магнітнымі матэрыяламі
2. Чыстая вада для адчувальных новых матэрыялаў
3. Чыстая вада для вытворчасці паўправадніковых матэрыялаў
4. Чыстая вада для сучасных металічных матэрыялаў
5. Чыстая вада для лабараторый матэрыялаў супраць старэння
6. Чыстая вада для афiнавання каляровых металаў i каштоўных металаў
7. Чыстая вада для вытворчасці новых матэрыялаў на мікронным узроўні натрыю
8. Чыстая вада для вытворчасці новых аэракасмічных матэрыялаў
9. Чыстая вада для вытворчасці сонечных батарэй
10. Чыстая вада для вытворчасці звышчыстых хімічных рэагентаў
11. Вада высокай чысціні для лабараторнага выкарыстання
12. Іншыя прыкладання з такімі ж патрабаваннямі да якасці чыстай вады
Удзельнае супраціўленне ≥ 18MQ.CM:
1. Чыстая вада для вытворчасці токаправоднага шкла ITO
2. Чыстая вада для лабараторнага выкарыстання
3. Чыстая вада для вытворчасці чыстай тканіны электроннага ўзроўню
4. Іншыя прыкладання з такімі ж патрабаваннямі да якасці чыстай вады
Акрамя таго, існуюць асаблівыя патрабаванні да праводнасці або ўдзельнага супраціву вады для некаторых ужыванняў, напрыклад, чыстая вада з праводнасцю ≤ 10 мкСм/см для вытворчасці белага віна, піва і г.д., і чыстая вада з удзельным супраціўленнем ≤ 5 мкСм/см для вытворчасці гальваніка.Для абсталявання, якое выкарыстоўваецца ў розных вытворчых працэсах, таксама прад'яўляюцца асаблівыя патрабаванні да праводнасці або ўдзельнага супраціву вады.
Звярніце ўвагу, што прадстаўленая інфармацыя грунтуецца выключна на дадзеным тэксце.Канкрэтныя патрабаванні для кожнага прыкладання могуць адрознівацца ў залежнасці ад галіновых стандартаў і правілаў.Для атрымання дакладнай і падрабязнай інфармацыі заўсёды лепш пракансультавацца з экспертамі або спецыялістамі ў канкрэтнай галіны.